[实用新型]导电性膜及导电性膜卷有效

专利信息
申请号: 201320001397.7 申请日: 2013-01-04
公开(公告)号: CN203217965U 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 藤野望;鹰尾宽行;石桥邦昭 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00;G06F3/044
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型涉及一种导电性膜及导电性膜卷。提供一种导电性膜,所述导电性膜在卷成卷状时邻接的膜没有压接而能够维持高品质。导电性膜(1)具备膜基材(2),形成在该膜基材的一侧的第1透明导电体层(3),形成在第1透明导电体层(3)的与膜基材(2)相反侧的第1铜层(4),形成在膜基材(2)的另一侧的第2透明导电体层(5),形成在第2透明导电体层(5)的与膜基材(2)相反侧的第2铜层(6),形成在第1铜层(4)的与第1透明导电体层(3)相反侧、厚度为1nm~15nm的第1氧化被膜层(7),第1氧化被膜层(7)实质上仅由氧化亚铜构成。导电性膜卷是将所述的导电性膜(1)卷成卷状而构成的。
搜索关键词: 导电性
【主权项】:
一种导电性膜,其特征在于,所述导电性膜具备: 膜基材, 形成在所述膜基材的一侧的第1透明导电体层, 形成在所述第1透明导电体层的与所述膜基材相反侧的第1铜层, 形成在所述膜基材的另一侧的第2透明导电体层, 形成在所述第2透明导电体层的与所述膜基材相反侧的第2铜层, 形成在所述第1铜层的与所述第1透明导电体层相反侧、厚度为1nm~15nm的第1氧化被膜层,所述第1氧化被膜层实质上仅由氧化亚铜构成。
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