[实用新型]真空系统有效
| 申请号： | 201320014502.0 | 申请日： | 2013-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN203247286U | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | M.A.加尔特里;G.T.莱格 | 申请（专利权）人： | 爱德华兹有限公司 |
| 主分类号： | C21C7/10 | 分类号： | C21C7/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李涛;傅永霄 |
| 地址： | 英国西萨*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于抽空冶金处理系统的室（12）的真空系统（10）。所述系统包括用于从室中抽气的真空泵送布置（14），将真空泵送布置与室相连接的前级管道，位于前级管道（16）中用于过滤沿着前级管道从室中抽出的气体的过滤器体积和将真空泵送布置与室相连接且被布置用以根据监测到的除气室或真空系统的特性选择性绕过过滤器体积的旁通管道（20）。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 系统 | ||
【主权项】：
一种用于抽空冶金处理系统的室的真空系统，所述真空系统包括：用于从室中抽气的真空泵送布置；将真空泵送布置与所述室相连接的前级管道；位于前级管道中用于过滤沿着前级管道从所述室中抽出的气体的过滤器体积；和用于将所述真空泵送布置与所述室相连接且被布置用以根据监测到的除气室或真空系统的特性而选择性地绕过过滤器体积的旁通管道。
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