[实用新型]一种线性蒸镀源喷嘴有效
| 申请号： | 201320109809.9 | 申请日： | 2013-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN203128644U | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 纪小红 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 蔡和平 |
| 地址： | 710021 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种线性蒸镀源喷嘴，属于真空蒸镀设备领域，包括喷射罩和设置在喷射罩上的喷射板，所述喷射板的纵长方向上开设有喷射口，喷射口上设置有遮挡片。本实用新型通过对喷射板上的喷射口宽度进行优化设置，并根据线源温度的差异，在喷射口上加入遮挡片，采用这种结构的线源喷嘴进行蒸镀，得到镀膜均匀度能够达到3%以内，也能很避免其它蒸镀源在蒸镀过程中的材料污染问题，同时材料也得到有效利用，本实用新型结构简单，设备制造成本低，适于工业化大规模生产应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 线性 蒸镀源 喷嘴 | ||
【主权项】：
一种线性蒸镀源喷嘴，其特征在于，包括喷射罩（1）和设置在喷射罩（1）上的喷射板，所述喷射板的纵长方向上开设有喷射口（2），喷射口（2）上设置有遮挡片（3）。
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