[实用新型]曝光机的玻璃基板支撑机构有效
| 申请号： | 201320126319.X | 申请日： | 2013-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN203117640U | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 刘小成 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 蔡晓红;林俭良 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种曝光机的玻璃基板支撑机构，包括基座、安装在基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、安装在基座四周，用于支撑玻璃基板四周的支撑杆、以及安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置；吸附装置用于吸附玻璃基板的上表面并可沿竖直方向运动与水平方向运动。实施本实用新型的有益效果是：玻璃基板支撑机构采用支撑平台的结构，其整体性好、温度均匀，有利于玻璃基板的HVA光配向；再者，玻璃基板支撑机构采用吸附装置的结构在二分割支撑方式和三分割支撑方式之间切换时，其操作简便、工作效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 玻璃 支撑 机构 | ||
【主权项】：
一种曝光机的玻璃基板支撑机构，包括基座、安装在所述基座顶部且用于支撑玻璃基板的支撑平台、以及安装在所述基座四周，用于支撑在所述玻璃基板底部四周的支撑杆；其特征在于：所述曝光机的玻璃基板支撑机构还包括安装在所述玻璃基板上方的至少一个吸附装置；每个所述吸附装置用于吸附所述玻璃基板的上表面并可沿竖直方向与水平方向运动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201320126319.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
