[实用新型]分区多靶磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201320303369.0 | 申请日： | 2013-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN203411601U | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 刘玮;陈强;王守国 | 申请（专利权）人： | 刘玮;陈强;王守国 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100049 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：在一个相互贯通的真空腔体的两端分别设有放卷室和收卷室，在其中部设有多个分区并贯通的中间靶腔室，每个中间靶腔室的底部为圆筒形状，在圆筒底部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极，在中间靶腔室中设有一个导辊，该导辊的两端是安装在带有轴承的支架上，该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘，在导辊和壳体之间可以施加电场偏压，在收放卷之间的薄膜由电机带动，通过导辊穿过彼此贯通的腔室，靶材料通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片上。该装置用来在薄膜的表面沉积不同的靶材料，具有靶材料之间彼此不污染、沉积膜层结合力好、真空状态下连续沉积的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 分区 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
本实用新型公开一种分区多靶磁控溅射设备，包括一个真空腔体、靶电极、导辊、电源、真空系统等，其特征是：在一个相互贯通的真空腔体的两端分别设有放卷室和收卷室，在其中部设有多个分区并贯通的中间靶腔室，每个中间靶腔室的底部为圆筒形状，在圆筒底部和侧面设有相同靶材料的长条形磁控溅射靶电极，在中间靶腔室中设有一个导辊，该导辊的两端是安装在带有轴承的支架上，该支架通过绝缘材料与真空壳体绝缘，在导辊和壳体之间可以施加电场偏压，在收放卷之间的薄膜由电机带动，通过导辊穿过彼此贯通的腔室，靶材料通过放电溅射出靶粒子沉积到卷绕在导辊的膜片上。
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