[实用新型]用于光刻区地面的吸污垫有效
| 申请号： | 201320311530.9 | 申请日： | 2013-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN203304267U | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 蔡永伟;金维;施冠元 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B17/02 | 分类号： | B08B17/02 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于光刻区地面的吸污垫包括一层防静电膜及其上的一层防化学吸污棉，防静电膜和防化学吸污棉相互贴合固定。在更换光刻胶时，将本实用新型的吸污垫铺垫在地面地板上，可以快速吸收滴落的光刻胶等化学品，提高了光刻区地面的清洁度，降低光刻胶更换后的刺激性气味，大大减少光刻胶滴落到地面带来的损伤，提高工作效率，降低对环境的污染。本实用新型的吸污垫还可折叠，减小存放空间，存放时防静电膜包裹里面的防化学吸污棉，进一步降低了吸收了光刻胶等化学品的防化学吸污棉对周围环境的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 地面 吸污垫 | ||
【主权项】：
一种用于光刻区地面的吸污垫，其特征在于：包括一层防静电膜及其上的一层防化学吸污棉，该防静电膜和防化学吸污棉相互贴合固定。
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