[实用新型]一种镀减反射膜设备有效
申请号: | 201320372830.8 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN203295602U | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | 马红娜;史金超;胡海波;马桂艳 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种镀减反射膜设备,所述镀减反射膜设备包括进料腔室、预热腔室、工艺腔室、冷却腔室和出料腔室,其中,所述进料腔室、所述预热腔室和所述工艺腔室的顶部均至少设置有一个气体吹扫装置,所述进料腔室、所述预热腔室和所述工艺腔室的底部均至少设置有一个碎屑排出口。在对一批硅片进行镀减反射膜前,首先对三个腔室进行氮气吹扫清理,保证腔室内部清洁,进而保证放入腔室内的每一批硅片的镀膜面的清洁,减少出现色差片的情况,提高了镀减反射膜的合格率,进而提高制作太阳能电池合格率。 | ||
搜索关键词: | 一种 减反射膜 设备 | ||
【主权项】:
一种镀减反射膜设备,包括进料腔室、预热腔室、工艺腔室、冷却腔室和出料腔室,其特征在于,所述进料腔室、所述预热腔室和所述工艺腔室的顶部均至少设置有一个气体吹扫装置,所述进料腔室、所述预热腔室和所述工艺腔室的底部均至少设置有一个碎屑排出口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的