[实用新型]一种石斛栽培水份管理装置有效
申请号: | 201320386531.X | 申请日: | 2013-07-01 |
公开(公告)号: | CN203340742U | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 刘晓津;罗焕明;邓瑞云;邱道寿;张蕾;蔡时可 | 申请(专利权)人: | 广东省农业科学院作物研究所 |
主分类号: | A01G31/02 | 分类号: | A01G31/02 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人: | 曹爱红 |
地址: | 510640 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种石斛栽培水份管理装置,包括蓄水槽和沥水层,沥水层置于蓄水槽的上方,蓄水槽与沥水层之间有间隙,有如下优选模式:(1)沥水层通过升降杆空悬于蓄水槽上方;(2)蓄水槽与沥水层之间设置垫片;(3)蓄水槽为地下层,蓄水槽内设置塑料膜,塑料膜上再铺设碎石层,碎石层上设置沥水层,沥水层上铺设培养基质层;(4)沥水层为底部有排水孔的盆,蓄水槽为盆托。应用该装置栽培时,先把基质层淋透,然后再向蓄水槽灌水,水平面接触沥水层底部或底部以上1-2公分;待基质层变干后,再重新按上述方式浇水。该装置减少了浇水次数;保证通风透气、半干半湿的环境;隔绝土壤病虫害;特别适用于石斛栽培,并保障石斛的产量和高品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 石斛 栽培 管理 装置 | ||
【主权项】:
一种石斛栽培水份管理装置,包括蓄水槽,其特征在于,还包括沥水层,所述沥水层置于所述蓄水槽的上方,所述蓄水槽与所述沥水层之间有间隙。
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