[实用新型]真空密封件分压漏率测量装置有效

专利信息
申请号: 201320390653.6 申请日: 2013-07-02
公开(公告)号: CN203414243U 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 王魁波;吴晓斌;王宇;陈进新;张罗莎;罗艳;谢婉露 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院
主分类号: G01M3/26 分类号: G01M3/26
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100094*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种真空密封件分压漏率测量装置,该测量装置包括超高真空室(2)、测试室(6)、样品室(7),超高真空室(2)与测试室(6)通过小孔(4)相连通,测试室(6)通过气体管道(14)与样品室(7)相连接。第一抽气泵组(1)从该超高真空室(2)中抽取气体;样品室(7)用于放置真空密封件(8)。第一质谱计(3)和第二质谱计(5)测量该超高真空室(2)和测试室(6)内的气体成分的分压。本实用新型通过两个质谱计在系统平衡状态下测量真空密封件在充气和真空两种状态下对于特定气体组分的分压,可以直接计算得到该真空密封件对该气体组分的分压漏率。
搜索关键词: 真空 密封件 分压漏率 测量 装置
【主权项】:
一种真空密封件分压漏率测量装置,其特征在于:包括一个超高真空室(2)、一个测试室(6)、一个样品室(7),以及一个第一质谱计(3)和一个第二质谱计(5),其中,所述超高真空室(2)与所述测试室(6)通过一个小孔(4)相连通,所述测试室(6)通过一个气体管道(14)与所述样品室(7)相连接;所述超高真空室(2)与一个第一抽气泵组(1)相连接,该第一抽气泵组(1)用于从该超高真空室(2)中抽取气体;所述第一质谱计(3)和第二质谱计(5)分别与所述超高真空室(2)和所述测试室(6)相连接,用于测量该超高真空室(2)和测试室(6)内的气体成分的分压。
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