[实用新型]一种自动装卸PECVD工件架内芯片的装置有效
申请号: | 201320525365.7 | 申请日: | 2013-08-27 |
公开(公告)号: | CN203429249U | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 刘林 | 申请(专利权)人: | 山东禹城汉能光伏有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人: | 李桂存 |
地址: | 251200 山东省德州*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型的一种自动装卸PECVD工件架内芯片的装置,包括:工件架移动底座,工件架固定在其顶部,工件架移动底座底部设置有轮子;两个芯片导轨架,分别设置在工件架移动底座的左右两侧,并与工件架的左右开口相对;每个芯片导轨架包括横向设置在顶部的上芯片导槽和横向设置在底部且与上芯片导槽相对的下芯片导槽,上芯片导槽和下芯片导槽之间设置有可左右伸缩的工作臂,工作臂端部设置有夹持装置。本实用新型的有益效果是:即可以节约人力成本,避免人员在搬动芯片过程中产生碎片划伤现象,也可以节约时间,实现自动化产线的衔接,适合大规模生产。对于增大产能与自动化生产都有很大的推广价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 自动 装卸 pecvd 工件 芯片 装置 | ||
【主权项】:
一种自动装卸PECVD工件架内芯片的装置,其特征在于,包括: 工件架移动底座,工件架固定在其顶部,工件架移动底座底部设置有轮子,轮子下方的地面上铺设有导轨; 两个芯片导轨架,分别设置在工件架移动底座的左右两侧,并与工件架的左右开口相对;每个芯片导轨架包括横向设置在顶部的上芯片导槽和横向设置在底部且与上芯片导槽相对的下芯片导槽,上芯片导槽和下芯片导槽之间设置有可左右伸缩的工作臂,所述工作臂端部设置有夹持装置;芯片导轨架底部设置有前后平移机构和定位装置;所述工作臂、夹持装置、前后平移机构和定位装置信号连接有控制器。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的