[实用新型]连续式纳米图案装置及利用其制造的防反射基板有效
| 申请号： | 201320534021.2 | 申请日： | 2013-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN203596358U | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 | 申请（专利权）人： | （株）SEP |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/20;B81C1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 朱健 |
| 地址： | 韩国京畿道安养市东安区冠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本实用新型涉及纳米图案涂覆技术领域，具体公开了一种连续式纳米图案装置包括：加载锁舱室（10），其将作为非加工物的基板投入到工艺中；溅射舱室（20），从上述加载锁舱室（10）排出的基板投入其中，并且在上述基板表面通过溅射方式形成纳米掩膜；蚀刻舱室（30），在表面形成有纳米掩膜的基板投入其中，并且蚀刻上述基板的表面后，形成纳米掩膜；以及卸载锁舱室（40），其将形成有纳米图案的基板排出至装置外部，并且，上述舱室通过一个连续式设备进行连接，从而投入至上述加载锁舱室（10）的基板连续经过上述溅射舱室（20）及蚀刻舱室（30）后，从上述蚀刻舱室（40）排出。本实用新型还提供了一种防反射基板。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 纳米 图案 装置 利用 制造 反射 | ||
【主权项】：
一种连续式纳米图案装置，用于将纳米图案形成于基板的表面，其特征在于，包括： 加载锁舱室（10），其将作为非加工物的基板投入到工艺中； 溅射舱室（20），从上述加载锁舱室（10）排出的基板投入其中，并且在上述基板表面通过溅射方式形成纳米掩膜； 蚀刻舱室（30），在表面形成有纳米掩膜的基板投入其中，并且蚀刻上述基板的表面后，形成纳米掩膜；以及 卸载锁舱室（40），其将形成有纳米图案的基板排出至装置外部， 并且，上述舱室通过一个连续式设备进行连接，从而投入至上述加载锁舱室（10）的基板连续经过上述溅射舱室（20）及蚀刻舱室（30）后，从上述蚀刻舱室（40）排出。
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