[实用新型]一种硅片研磨光学抛光系统有效
| 申请号： | 201320712728.8 | 申请日： | 2013-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN203527228U | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 尹明;汪力 | 申请（专利权）人： | 昆山科尼电子器材有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/30;B24B37/34;B24B29/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215325 江苏省苏州市昆山*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种硅片研磨光学抛光系统，包括加热设备、立轴平面铣磨机和二氧化硅单面抛光机，所述加热设备包括加热底座和圆形载盘，所述载盘上表面为光滑的平面，在所述硅片和所述载盘之间设置有粘结蜡层；所述立轴平面铣磨机包括第一机架和第一工作台，在所述第一工作台上开设有多个与所述载盘相匹配的圆形腔室，在所述第一机架上方设置有金刚石磨盘；采用本实用新型所提供的硅片研磨光学抛光系统，通过加热设备、立轴平面铣磨机和二氧化硅单面抛光机的相互配合，研磨过程中不使用研磨砂，减少了废弃物的排放，同时还提高了生产效率，提高了成品率，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 研磨 光学 抛光 系统 | ||
【主权项】：
一种硅片研磨光学抛光系统，其特征在于，包括加热设备、立轴平面铣磨机和二氧化硅单面抛光机，所述加热设备包括加热底座和圆形载盘，所述载盘上表面为光滑的平面，在所述硅片和所述载盘之间设置有粘结蜡层；所述立轴平面铣磨机包括第一机架和第一工作台，在所述第一工作台上开设有多个与所述载盘相匹配的圆形腔室，在所述第一机架上方设置有金刚石磨盘。
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