[实用新型]一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构有效

专利信息
申请号: 201320824437.8 申请日: 2013-12-12
公开(公告)号: CN203690288U 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 俞国庆;邵长治;严怡媛;陈俊飞 申请(专利权)人: 宁波芯健半导体有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 宋缨;孙健
地址: 315336 浙江省宁波市杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构,包括第一硅承载层和第二硅承载层组成的叠层芯片,第二硅承载层铺设在第一硅承载层的底部形成凸起区域;第一硅承载层的底部和凸起区域上均生长有电性隔绝层,并留有第一开口和第二开口;第一开口中设有第一电性连接点;第二开口中设有第二电性连接点;电性隔绝层上生长有光阻层;光阻层上生长有金属层;金属层覆盖第一电性连接点和第二电性连接点;第一电性连接点上通过多次电镀形成第一铜凸块;第二电性连接点上通过多次电镀形成第二铜凸块;第一铜凸块和第二铜凸块顶部处于同一水平面;第一铜凸块和第二铜凸块的顶部生长有等高度的金属球。本实用新型能够保证在倒装焊的过程中更好地连接。
搜索关键词: 一种 芯片 晶圆级铜凸块 封装 结构
【主权项】:
一种叠层芯片的晶圆级铜凸块封装结构,包括叠层芯片,其特征在于,所述叠层芯片包括第一硅承载层和第二硅承载层,所述第二硅承载层铺设在所述第一硅承载层的底部形成凸起区域;所述第一硅承载层的底部和凸起区域上均生长有电性隔绝层,所述第一硅承载层的底部上的电性隔绝层上留有第一开口;所述第一开口中设有第一电性连接点;所述凸起区域上的电性隔绝层上留有第二开口;所述第二开口中设有第二电性连接点;所述电性隔绝层上生长有光阻层;所述光阻层上生长有金属层;所述金属层覆盖所述第一电性连接点和第二电性连接点;所述第一电性连接点上通过多次电镀形成第一铜凸块;所述第二电性连接点上通过多次电镀形成第二铜凸块;所述第一铜凸块和第二铜凸块顶部处于同一水平面;所述第一铜凸块和第二铜凸块的顶部生长有等高度的金属球。
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