[实用新型]PECVD镀膜装置

摘要

本实用新型提供了一种PECVD镀膜装置。该PECVD镀膜装置包括：预处理室（10），用于对基材（40）进行表面预处理；镀膜室（20），位于预处理室（10）下游，用于对经预处理室（10）预处理的基材（40）进行镀膜；以及收料室（30），设置在镀膜室（20）下游，用于收集经镀膜室（20）镀膜的基材（40）；预处理室（10）、镀膜室（20）以及收料室（30）之间为真空密封连接。本实用新型所提供的PECVD镀膜装置，能够保证基材表面处理时的清洁度，保证基材表面的镀膜质量。

主权项

一种PECVD镀膜装置，其特征在于，包括：预处理室（10），用于对基材（40）进行表面预处理；镀膜室（20），位于所述预处理室（10）下游，用于对经所述预处理室（10）预处理的基材（40）进行镀膜；以及收料室（30），设置在所述镀膜室（20）下游，用于收集经所述镀膜室（20）镀膜的基材（40）；所述预处理室（10）、所述镀膜室（20）以及所述收料室（30）之间为真空密封连接。