[实用新型]一种涂胶显影机有效
| 申请号： | 201320869717.0 | 申请日： | 2013-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN203643740U | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 岳力挽;邢滨 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种涂胶显影机，至少包括：涂胶单元；位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；位于相邻所述涂胶单元之间的溶剂槽；位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上的机械手臂。将涂胶单元呈2×2的阵列分布，便于光刻胶喷嘴对其进行不间断的旋转喷涂，节省了涂布时间，节约了生产成本；将光刻胶喷嘴设置成四个，既可以实现同时为放置于四个涂胶单元内托盘上的晶圆进行光刻胶涂布，有效地提高了生产量，又可以实现在一个工作系统中对涂胶单元进行不同种类光刻胶的涂布；设计两条机械手臂，即使一条机械手臂出现故障，整个涂胶显影机机台仍可以继续运转工作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涂胶 显影 | ||
【主权项】：
一种涂胶显影机，其特征在于，所述涂胶显影机至少包含：涂胶单元，所述涂胶单元包括呈2×2的阵列分布、用于放置晶圆的托盘；位于所述涂胶单元中部的光刻胶喷嘴；位于相邻所述涂胶单元之间、用于清洗光刻胶喷嘴的溶剂槽；位于所述涂胶单元纵向一侧的加热/冷却盘；以及位于所述涂胶单元和加热/冷却盘两侧的运行轨道以及装设于所述运行轨道上、用于传送晶圆的机械手臂。
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