[发明专利]含有铬氧化物的强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201380010211.7 | 申请日： | 2013-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN104126026A | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 高见英生;荒川笃俊 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/64;G11B5/65 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种强磁性材料溅射靶，其含有基体相和至少包含铬氧化物的氧化物相，所述基体相包含钴；或钴、铬；或钴、铂；或钴、铬、铂，其特征在于，含有合计为10重量ppm以上且3000重量ppm以下的Y、Mg、Al中的任意一种以上元素，相对密度为97％以上。本发明的课题是提供保持高密度、并且使氧化物相颗粒均匀地微细化、粉粒产生少的含有铬氧化物的强磁性材料溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 氧化物 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
一种强磁性材料溅射靶，其含有基体相和氧化物相，所述基体相包含钴；或钴、铬；或钴、铂；或钴、铬、铂，所述氧化物相至少包含合计为5摩尔％以上且25摩尔％以下的铬氧化物和Si、Ti中任意一种以上的金属氧化物，其特征在于，含有合计为10重量ppm以上且3000重量ppm以下的Y、Mg、Al中的任意一种以上元素，相对密度为97％以上。
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