[发明专利]含有铬氧化物的强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201380010823.6 | 申请日： | 2013-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN104395497B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 高见英生;荒川笃俊 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B5/64;G11B5/65;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 | 代理人： | 王海川,穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种强磁性材料溅射靶，其含有包含钴；或者钴、铬；或者钴、铂；或者钴、铬、铂的基体相和至少包含铬氧化物的氧化物相，其特征在于，含有合计为100重量ppm以上且15000重量ppm以下的Zr、W中的任意一种以上元素，相对密度为97％以上。本发明的课题在于提供在保持高密度的同时使氧化物相的颗粒均匀地微细化且粉粒产生少的含有铬氧化物的强磁性材料溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 氧化物 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
一种强磁性材料溅射靶，其含有包含钴；或者钴、铬；或者钴、铂；或者钴、铬、铂的基体相和至少包含铬氧化物的氧化物相，其特征在于，含有合计为100重量ppm以上且3000重量ppm以下的Zr、W中的任意一种以上元素，以Cr2O3换算含有0.5摩尔％以上且10摩尔％以下的铬氧化物，相对密度为97％以上。
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