[发明专利]回卷装置、回卷方法、检查装置以及构造物制造方法有效
| 申请号： | 201380016049.X | 申请日： | 2013-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN104185771A | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 壁谷泰宏;古田宽和;原伸夫;青木祥平;滨野诚司 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B9/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种回卷装置，该回卷装置具备：分割部(303)，其将来自光源单元的放射光分割为照射在第一片与第二片的侧面部(204e)上的测定光和照射在参照面(311)上的参照光；干涉检测部(314)，其检测由所述参照面反射的所述参照光与由所述侧面部反射的所述测定光干涉而成的干涉光；位置检测部(314)，其根据由所述检测部检测到的所述干涉光而检测所述第一片与所述第二片的位置；判定部(100c)，其根据由所述位置检测部检测到的所述位置来判定所述回卷体的优劣。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 检查 以及 构造 制造 | ||
【主权项】：
一种回卷装置，其将贴合的第一片与第二片卷绕在卷芯上从而形成回卷体，其中，所述回卷装置具备：光源单元，其射出放射光；分割部，其将所述放射光分割为照射在贴合的所述第一片与所述第二片的侧面部上的测定光和照射在参照面上的参照光；干涉检测部，其检测由所述参照面反射的所述参照光与由所述侧面部反射的所述测定光干涉而成的干涉光；位置检测部，其根据检测到的所述干涉光而分别检测所述第一片与所述第二片的位置；判定部，其根据检测到的所述第一片与所述第二片的所述位置来判定所述回卷体的优劣。
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