[发明专利]负型感光性硅氧烷组合物有效
| 申请号： | 201380018141.X | 申请日： | 2013-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN104246612B | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 横山大志;能谷敦子;田代裕治;吉田尚史;田中泰明;福家崇司;高桥惠;谷口克人;野中敏章 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（卢森堡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 卢森堡(L-1*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供可进行无机显影的负型感光性硅氧烷化合物、以及使用了其的固化膜的形成方法。一种负型感光性硅氧烷组合物，其包含聚硅氧烷、pKa为2.0～15.7的含硅的化合物、光聚合引发剂以及溶剂。可通过将该组合物涂布于基材上，进行曝光，然后利用无机显影液而显影，并进行加热，从而获得固化膜。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 硅氧烷 组合 | ||
【主权项】：
1.一种负型感光性硅氧烷组合物，其特征在于包含：聚硅氧烷、在25℃的水中的pKa为2.0～15.7的含硅的化合物、通过光照射而引发聚合的光酸产生剂或光碱产生剂、以及溶剂，其中，该含硅的化合物为(i)通式(A‑1)表示的化合物、或者将其作为聚合单元形成在聚合物的末端或侧链而得到的重均分子量1,000以下的聚合物，或(ii)通式(A‑2)或通式(A‑3)表示的重均分子量4,000以下的化合物，![]()
并且，该组合物不包含成为聚合据点的丙烯酰基基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料（卢森堡）有限公司，未经AZ电子材料（卢森堡）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380018141.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
