[发明专利]喷嘴单元以及具有该喷嘴单元的基板处理设备在审
| 申请号： | 201380027011.2 | 申请日： | 2013-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN104334286A | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 朴用城;李成光;金东烈 | 申请（专利权）人： | 国际电气高丽株式会社 |
| 主分类号： | B05B1/02 | 分类号： | B05B1/02;H01L21/205;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 姜燕;王卫忠 |
| 地址： | 韩国忠清*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供基板处理设备。本发明的基板处理设备包括：工艺管，容置用于收纳多个基板的装载器，加热器组件，包围所述工艺管，喷嘴单元，向所述工艺管的内部供给用于在所述基板的表面上形成薄膜的工艺气体；所述喷嘴单元包括用于屏蔽并反射来自所述加热器组件的热能的热反射构件。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 单元 以及 具有 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种喷嘴单元，其特征在于，包括：第一管：具有多个喷射口；热反射构件，屏蔽并反射向所述第一管的内部传递的热能。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际电气高丽株式会社，未经国际电气高丽株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380027011.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
