[发明专利]用于制备具有低氧含量的铜电沉积物的添加剂有效
| 申请号： | 201380027336.0 | 申请日： | 2013-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN104428452B | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | T·皮尔逊 | 申请（专利权）人： | 麦克德米德尖端有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙)11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制备铜电沉积物的铜电镀浴。该铜电镀浴包含(a)可溶的铜盐、(b)包含一种以上的酸的电解质、以及(c)包含烷基、芳基或烷基芳基二胺的晶粒细化添加剂。该铜电镀浴可用于制备具有低氧含量的电铸铜沉积物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 具有 低氧 含量 沉积物 添加剂 | ||
【主权项】：
一种用于制备铜电沉积物的铜电镀浴，该铜电镀浴包含：a)可溶的铜盐；b)包含一种以上的酸的电解质；以及c)包含烷基二胺的晶粒细化添加剂；其中该二胺具有下列结构：(1)R1‑R2‑N‑R3‑N‑R4‑R5，其中R1、R2、R4和R5为氢或C1‑C4烷基，R3为C4‑C14烷基。
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