[发明专利]分析结构化光模式有效
申请号: | 201380028274.5 | 申请日: | 2013-06-25 |
公开(公告)号: | CN104335249B | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | Z·阿维夫;D·斯坦希尔;R·费伦斯;R·齐斯 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | G06T15/06 | 分类号: | G06T15/06;H04N13/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 王英,张立达 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 系统和方法可以包括利用可以在三个方向(例如,垂直,水平和对角线)上被解码的结构化光模式等等。在一个示例中,该方法可以包括在返回图像中检测目标图像的第一特征,指定第一特征的特征类型以及使用文字的索引,其中,所述索引与模式载玻片相关联。所述方法还可以包括计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置,计算所述第一特征在所述模式载玻片中的垂直位置,并且计算所述第一特征的深度。 | ||
搜索关键词: | 分析 结构 模式 | ||
【主权项】:
一种分析结构化光模式的系统,包括:投影设备;以及计算设备,包括:第一检测模块,用于在返回图像中检测目标图像的第一特征,其中,所述返回图像使用根据模式图像制造的模式载玻片而被捕获,第一指定模块,用于指定所述第一特征的特征类型,包括将第一文字分配给所述第一特征,第一关联模块,用于使索引与所述第一文字相关联,其中,所述索引与所述模式载玻片相关联,水平位置模块,用于利用所述索引来计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置,垂直位置模块,用于利用所述索引来计算所述第一特征在所述模式载玻片中的垂直位置,以及深度计算模块,用于计算所述第一特征的深度。
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