[发明专利]粗糙化的基板支撑件在审
申请号: | 201380037798.0 | 申请日: | 2015-08-02 |
公开(公告)号: | CN104508180A | 公开(公告)日: | 2015-07-29 |
发明(设计)人: | D·李;W·N·斯特林;朴范洙;崔寿永 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;B24C1/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明一般是有关于一种用于在一基板处理腔体中使用的基板支撑件。一粗糙化的基板支撑件减少在腔体内的电弧且亦提供均匀沉积于基板上。粗糙化可以两个步骤执行。于一第一步骤中,基板支撑件是进行喷珠以初步地粗糙化表面。接着,粗糙化的表面是以较细的磨粒进行喷珠,以产生一具有介于约707微英寸及约837微英寸间的表面粗糙度的基板支撑件。在表面粗糙化之后,基板支撑件进行阳极处理。 | ||
搜索关键词: | 粗糙 支撑 | ||
【主权项】:
一种形成粗糙化的基板支撑件的方法,包括:于第一工艺中对基板支撑件的表面进行喷珠,其中所述珠体具有第一磨粒尺寸;以及于第二工艺中对所述基板支撑件的所述表面进行喷珠,其中所述珠体具有第二磨粒尺寸,所述第二磨粒尺寸小于所述第一磨粒尺寸。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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