[发明专利]视网膜光治疗的系统及方法有效
| 申请号： | 201380039548.0 | 申请日： | 2013-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN104487031B | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | J·K·卢特鲁勒;B·马戈利斯 | 申请（专利权）人： | 奥哈伊视网膜技术有限责任公司 |
| 主分类号： | A61F9/008 | 分类号： | A61F9/008 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 治疗视网膜疾病的系统及方法包含使复数个辐射束，即雷射束，通过光学透镜或遮罩以光学性塑形该束。经塑形的束施用到至少一部份的视网膜。由于该束的经选择的参数－脉波长、功率及工作周期－该束实质上可施用到整个视网膜，包含中央窝，而不损害视网膜或中央窝组织，同时还得到视网膜光治疗或光刺激的益处。 | ||
| 搜索关键词： | 视网膜 治疗 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于进行视网膜光治疗的辐射束系统，包括：雷射主控台，以产生复数个辐射束，其中，各个辐射束包括预定波长、功率及工作周期；光学透镜或遮罩，使该辐射束通过，以光学性塑形该辐射束；以及共轴的宽场非接触式数位光学检视相机，以投射该辐射束到至少一部份的视网膜；其中，该工作周期是低于10％；投射到该至少一部份的视网膜的雷射点直径低于3mm；工作周期的功率介于每平方公分100瓦到590瓦之间；该功率会产生介于最大容许曝光量的18倍至55倍之间的视网膜雷射曝光，且产生7℃‑14℃的视网膜色素上皮细胞温度升高。
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