[发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法有效
申请号: | 201380047554.0 | 申请日: | 2013-09-11 |
公开(公告)号: | CN104619462B | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 郭益淳;曹昇范;鲁埈硕;金钟珌 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | B24B57/00 | 分类号: | B24B57/00;B24C11/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 顾晋伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法,可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质,实现包括清洗工艺在内的再生工艺的效率化,而且能够抑制清洗工艺中含氧化铈磨料的再凝聚。所述含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤将含氧化铈废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合,以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅杂质;使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统进行清洗,以便有选择地去除所述含氧化硅杂质;以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥及烧结。 | ||
搜索关键词: | 氧化 磨料 再生 方法 | ||
【主权项】:
一种含氧化铈废磨料的再生方法,包括以下步骤:将含氧化铈废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合,以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅杂质;使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统进行清洗,以便有选择地去除所述含氧化硅杂质;以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥并烧结,以获得具有60至90nm的结晶尺寸及0.5至3.0μm的平均粒度的含氧化铈再生磨料,其中所述溶剂溶液是以0.01至20M的浓度包含氟类化合物的水溶液并且所述氟类化合物为NaHF2、(NH4)HF2或KHF2,所述烧结在包含铵盐、碱金属盐、金属含氧酸、金属氧化物或碱土金属盐的助熔剂存在下在800至1200℃的温度下进行,其中所述助熔剂包含选自氟化铵、氯化铵、氯化钠、氟化钠、氢氧化钠、氯化钾、硫酸铵、氧化硼、氯化钡、硼酸及硼酸钠中的至少一种并且是在清洗中以相对于待再生的所述废浆料的重量为1至3.0重量%的量添加的,并且所述干燥在CD干燥机中以1至10rpm的速度进行1至30秒钟。
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