[发明专利]光固化性组合物和膜的制造方法有效
| 申请号： | 201380052636.4 | 申请日： | 2013-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN104737271B | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 伊藤俊树;三原知恵子;松藤奈央子;北川健司 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;B29C59/02;C08K5/435;C08L33/00 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种降低了脱模力的光固化性组合物。所述光固化性组合物是以下光固化性组合物，其在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜，并且包括聚合性化合物、光聚合引发剂和具有光刺激响应部位的感光性气体产生剂。所述感光性气体产生剂具有含有至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体。 | ||
| 搜索关键词： | 光固化 组合 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光固化性组合物，其特征在于，所述光固化性组合物在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜，所述光固化性组合物包括：聚合性化合物；光聚合引发剂；和具有光刺激响应部位的感光性气体产生剂，其中所述感光性气体产生剂具有包括至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体，所述光固化性组合物进一步包括氟系表面活性剂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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