[发明专利]模内成形用转印膜、模内成形体的制造方法及成形体有效
申请号: | 201380066593.5 | 申请日: | 2013-12-02 |
公开(公告)号: | CN104870185A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | 伊藤贤哉;大熊康之 | 申请(专利权)人: | 捷恩智株式会社 |
主分类号: | B32B15/08 | 分类号: | B32B15/08;B29C45/14;B32B7/02 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 李艳;臧建明 |
地址: | 日本东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明获得一种耐热性、耐久性、成形性优异,且抑制浇口溢流的产生,并可维持导电性的模内成形用转印膜。本申请的模内成形用转印膜具备:转印层11,其在模内成形中被转印至转印对象物,且在转印后通过照射活性能量线而硬化;及膜状的基材L0。转印层11具有:面涂层L2,其层叠于基材L0上,且在模内成形后配置于成形体的表面;及导电体层L4,其层叠于面涂层L2的与基材L0侧相反的一侧,且层叠于面涂层L2上。面涂层L2由包含活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂的混合组成来构成,导电体层L4由选自由具有挠性的金属、碳、导电性聚合物所组成的组群的至少一种来形成。 | ||
搜索关键词: | 成形 用转印膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种模内成形用转印膜,其具备:转印层,其在模内成形中被转印至转印对象物,且在转印后通过照射活性能量线而硬化,以及膜状的基材;所述转印层具有:面涂层,其层叠于所述基材上,且在模内成形后配置于成形体的表面,以及导电体层,其层叠于所述面涂层的与所述基材侧相反的一侧,且层叠于所述面涂层上;所述面涂层由包含活性能量线硬化性树脂与热硬化性树脂的混合组成来构成,所述导电体层由选自由具有挠性的金属、碳、导电性聚合物所组成的组群的至少一种来形成。
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