[发明专利]耐等离子性构件在审
| 申请号： | 201380067799.X | 申请日： | 2013-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN104884409A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 岩澤顺一;青岛利裕 | 申请（专利权）人： | TOTO株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/50 | 分类号： | C04B35/50;C04B41/87 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 周善来;王玉玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种耐等离子性构件，其特征在于，具备：基材；及层状结构物，形成于所述基材的表面，包含氧化钇多结晶体且具有耐等离子性，所述层状结构物具有：第1凹凸结构；及第2凹凸结构，在所述第1凹凸结构上重叠而形成，具有与所述第1凹凸结构相比更细微的凹凸。能够提高覆盖腔室内壁的被膜的密合强度或密合力，或能够减少微粒。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 构件 | ||
【主权项】：
一种耐等离子性构件，其特征在于，具备：基材；及层状结构物，形成于所述基材的表面，包含氧化钇多结晶体且具有耐等离子性，所述层状结构物具有：第1凹凸结构；及第2凹凸结构，在所述第1凹凸结构上重叠而形成，具有与所述第1凹凸结构相比更细微的凹凸。
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