[发明专利]溶胶-凝胶类型的分子印迹聚合物和其作为去屑剂的用途

摘要

本发明的主题是通过包含硅烷、原硅酸四(C₁-C₄)烷基酯、致孔溶剂和C₁₄-C₂₀脂肪酸的混合物的聚合获得的分子印迹聚合物。包含此类聚合物的化妆品组合物。使用此类聚合物防止和/或处理头皮屑的化妆方法。

主权项

用于制备分子印迹聚合物的方法，其包括聚合包含如下物质的混合物的第一阶段：i) 一种或多种硅烷；ii) 一种或多种选自原硅酸四(C₁‑C₄)烷基酯的交联剂；和iii) 水；iv) 一种或多种致孔溶剂；v) 一种或多种C₁₄‑C₂₀脂肪酸；然后除去存在于第一阶段结束时获得的聚合物中的C₁₄‑C₂₀脂肪酸的第二阶段，所述硅烷对应于下式(I):R₁Si(OR₂)_z(R₃)_x (I)其中:• R₁为被选自如下的基团取代的饱和或不饱和的、直链或支链的和环状或非环C₁‑C₆烃链：‑ 胺NH₂或NHR基团, 其中R = C₁‑C₄烷基，‑ 被氨基或被C₁‑C₄氨基烷基取代的芳基或芳基氧基，对于R₁而言可以在其链中插入杂原子(O, S, NH)或羰基(CO)基团，R₁直接通过碳原子键合至硅原子 ,• R₂和R₃, 相同或不同, 代表包含1至6个碳原子的直链或支链烷基,• z 代表1至3的整数, 和• x 代表0至2的整数,其中z+x = 3。