[发明专利]用于光刻设备的投影系统、反射镜和辐射源在审
| 申请号： | 201380071158.1 | 申请日： | 2013-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN105122139A | 公开（公告）日： | 2015-12-02 |
| 发明（设计）人： | M·范德克尔克霍夫;A·范欧斯腾;H·巴特勒;E·鲁普斯特拉;M·范德威吉斯特;K·扎尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 投影 系统 反射 辐射源 | ||
【主权项】：
一种投影系统，所述投影系统被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影系统包括：至少一个反射镜，所述至少一个反射镜包括至少一个致动器，所述至少一个致动器能够操作以定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状；并且为所述反射镜提供主动衰减；至少一个控制器，所述至少一个控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号；其中第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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