[发明专利]用于处理大面积基板的设备和方法在审
| 申请号： | 201380078080.6 | 申请日： | 2013-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN105358959A | 公开（公告）日： | 2016-02-24 |
| 发明（设计）人： | A·赫尔米希;F·施纳彭伯格;J·施罗德 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01N21/896;G01N21/958 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 黄嵩泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种用于处理大面积基板(120)的设备(100)以及一种用于测量基本上竖直地布置的大面积基板的至少一个光学性质的方法。用于处理大面积基板的设备包括：腔室布置(110)，用于以竖直地布置的状态来传输大面积基板通过所述腔室布置(110)，其中，腔室布置包括至少一个腔室、处理装置和出口端口(112)，处理装置用于处理竖直地布置的大面积基板，出口端口(112)用于竖直地布置的大面积基板；传输系统，用于传输基板通过腔室布置；以及测量布置(210)，包括光学测量装置。光学测量装置包括发光装置(211)和光检测装置，发光装置用于将漫射光发射到竖直地布置的大面积基板上，光检测装置用于测量竖直地布置的大面积基板的至少一个光学性质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 大面积 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于处理大面积基板(120)的设备(100)，包括：‑腔室布置(110)，用于以基本上竖直地布置的状态来传输所述大面积基板(120)通过所述腔室布置(110)，其特征在于，所述腔室布置(110)包括至少一个腔室、处理装置和出口端口(112)，所述处理装置用于处理竖直地布置的所述大面积基板(120)，所述出口端口(112)用于基本上竖直地布置的所述大面积基板(120)；‑传输系统，用于传输基本上竖直地布置的所述大面积基板(120)通过所述腔室布置(110)；以及‑测量布置(200)，包括至少一个光学测量装置(210)，其特征在于，所述至少一个光学测量装置(210)包括发光装置(211)和第一光检测装置(212)，所述发光装置(211)用于将漫射光发射到竖直地布置的所述大面积基板上，并且所述第一光检测装置(212)用于测量基本上竖直地布置的所述大面积基板的至少一个光学性质。
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