[发明专利]光学构件的制造方法以及光学构件、光学构件形成用透明构件、光波导及光模块在审

专利信息
申请号: 201380079259.3 申请日: 2013-08-30
公开(公告)号: CN105492932A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 酒井大地;内崎雅夫;黑田敏裕 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/12;G02B6/136;G02B6/138;B29D11/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;金鲜英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够按位置以高精度对透明构件的芯图案的表层部位附近和中心部的折射率进行控制的光学构件的制造方法以及低光损失的光波导。本发明的光学构件的制造方法具有工序A,即:将透明构件暴露于溶液,使暴露于溶液的透明构件的表层部位的折射率实质上低于未暴露于溶液的透明构件的中心部的折射率。表层部位的实质性低折射率化可通过使透明构件的表层部位所含有的折射率控制剂发挥其功能来实现。此外,本发明的光波导主要具有形成芯部的芯图案的2边以上的外周相比所述芯图案的中心部具有低折射率的表层部位,该表层部位包含用于进行低折射率化的折射率控制剂,进而在具有低折射率的表面部位的外侧具有更低折射率的下部包覆层或/和上部包覆层。
搜索关键词: 光学 构件 制造 方法 以及 形成 透明 波导 模块
【主权项】:
一种光学构件的制造方法,其具有工序A,即:将透明构件暴露于溶液,使暴露于所述溶液的所述透明构件的表层部位的折射率实质上低于未暴露于所述溶液的所述透明构件的中心部的折射率。
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