[发明专利]铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物在审
| 申请号： | 201410012683.2 | 申请日： | 2014-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN103924244A | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 金世训;李恩庆;李宝妍;申孝燮 | 申请（专利权）人： | 易安爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 蔡晓红 |
| 地址： | 韩国首尔市*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，本发明的铜/钼或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，包括同时具有醇基和胺基的化合物的蚀刻稳定剂。本发明的蚀刻液组合物在反复进行蚀刻工程，蚀刻液内金属离子的含量较高时，可维持蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等蚀刻特性，应用在TFT-LCD显示器，OLED电极制造等上。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，对于组合物的总重量，包含：5至40%重量的过氧化氢，0.1至5%重量的蚀刻抑制剂，0.1至5%重量的螯合剂，0.1至5%重量的蚀刻添加剂，0.01至2%重量的氟化物，0.01至2%重量的蚀刻稳定剂及余量的水且使全部组合物的总重量为100%重量；所述蚀刻稳定剂是同时具有醇基和胺基的化合物。
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