[发明专利]纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法

摘要

本发明公开的了一种纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，将低钕磁性相和纳米富钕相分开来制作，制得的低钕磁性相合金粉末为晶体态，浸在矿物油中进行氧化保护；制得的纳米富钕相合金粉末为非晶体态，不易被氧化；通过这种方式能够有效地对低钕磁性相和纳米富钕相进行氧化保护，因此在配料的时候无需多增加稀土的含量；另外，方便实现操纵控制微观组织结构的目的。从而能够实现纳米低钕复相钕铁硼的制作，大大降低了钕铁硼的材料成本，也提高了钕铁硼的剩磁和能积，磁体矫顽力也相对较高。而且本发明的制作方法，还可以通过低钕磁性相粉体和纳米富钕相粉体的混料比例来调整产品的性能，生产出不同规格的产品，使不同产品生产更加方便。

主权项

一种纳米非晶低钕复相钕铁硼的制作方法，它包括以下步骤：    a、制作低钕磁性相，它包括以下步骤：①、配料；按重量百分比为PrNd 20~30%，B 0.93~1.32%，Cu 0.05~0.3%，Ga 0.1~0.9%， Tb 0.05~2.0%，Co 0.5~8%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料；②、将步骤①配好的原材料进行甩片加工，形成铸片；③、将步骤②所得铸片进行氢碎制粉，得到粒度为0.5mm以下的颗粒；④、将步骤③氢碎好的粉料进行气流磨制粉，粉料粒度磨到1.5~2um；并将制好的粉料浸在矿物油中备用；b、制作纳米富钕相，它包括以下步骤：、配料；按重量百分比为：PrNd 25~35%，B 0.5~1%，Cu 0.01~1.0%，Dy 20~40%， Co 30~40%，Ti 0.1~1.5%， Nb0.2~1.6%，余量为Fe的比例配料；、将步骤（1）配好的原材料进行甩片加工，得到非晶薄片；、将步骤（2）所得非晶薄片进行氢碎制粉，得到粒度为0.5mm以下的颗粒；、将步骤（3）氢碎好的粉料进行气流磨制粉，粉料粒度磨到0.5~2.0um；c、混料；将低钕磁性相粉料和纳米富钕相粉料按比例进行混料；低钕磁性粉料:纳米富钕相粉料=85~98:15~2；d、将步骤c混合后的粉料进行成型压制，得到成型产品；e、将步骤d所得的成型产品进行脱油、脱气、真空烧结；最终得到纳米非晶低钕复相钕铁硼。