[发明专利]一种显示面板及其制备方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201410021587.4 申请日: 2014-01-16
公开(公告)号: CN103777814B 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 王灿;郭炜 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。一种显示面板,包括触控扫描电极和触控感应电极,所述触控扫描电极和/或所述触控感应电极中设置有至少一个隔断层,所述隔断层将所述触控扫描电极或所述触控感应电极分隔为至少两个电极子层,其中,所述电极子层采用具有由非晶性质转变为多晶性质的电极材料形成,所述隔断层用于防止所述电极材料在晶化工艺前发生晶化反应。本发明的有益效果是通过在较厚的触控电极中设置较薄的隔断层,既能有效缓解触控过程中信号延迟的问题,提高了触控的灵敏度;同时,又能减小成膜工艺中用于形成触控电极的电极材料的晶化,提高了刻蚀工艺的刻蚀均匀性,提高了产品良率。
搜索关键词: 一种 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种显示面板,包括触控扫描电极和触控感应电极,其特征在于,所述触控扫描电极和/或所述触控感应电极中设置有至少一个隔断层,所述隔断层将所述触控扫描电极或所述触控感应电极分隔为至少两个电极子层,所述电极子层采用具有由非晶性质转变为多晶性质的电极材料形成,所述隔断层用于防止所述电极材料在晶化工艺前发生晶化反应,所述隔断层采用具有低电阻率、且光透过率范围为大于等于60%的金属导体材料形成,所述隔断层的层数大于或等于2层,小于或等于5层,所述隔断层的厚度范围为
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