[发明专利]二极管、ESD保护电路及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410033871.3 申请日: 2014-01-24
公开(公告)号: CN103972303B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 高在赫;金汉求;高民昌;金昌洙;全暻基 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06;H01L29/40;H01L27/02;H01L21/329;H01L21/28;H01L21/8249
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 薛义丹;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种二极管、ESD保护电路、制造二极管的方法以及同时制造二极管和PLDMOS晶体管的方法。所述方法如下。在N型外延层的第一上部中形成N型阱区域。在N型外延层的第二上部中形成P型漂移区域。在N型阱区域中形成N型掺杂区域。在P型漂移区域中形成P型掺杂区域。在P型漂移区域中形成隔离结构。隔离结构设置在N型阱区域和P型掺杂区域之间。在N型外延层的一部分上形成第一电极。N型外延层的所述一部分设置在N型阱区域和P型漂移区域之间。第一电极与隔离结构的一部分叠置。形成连接结构以电结合N型掺杂区域和第一电极。
搜索关键词: 二极管 esd 保护 电路 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种二极管,所述二极管包括:N型阱区域,设置在N型外延层中;P型漂移区域,设置在N型外延层中,其中,P型漂移区域与N型阱区域分隔开;阴极电极,包括第一电极和N型掺杂区域,其中,N型掺杂区域电结合到第一电极,N型阱区域仅包括N型掺杂区域并且不包括P型掺杂区域,第一电极设置在N型外延层上;阳极电极,包括P型掺杂区域,其中,P型掺杂区域设置在P型漂移区域中;以及隔离结构,设置在P型漂移区域中,其中,隔离结构设置在N型阱区域和P型掺杂区域之间,其中,阴极电极的第一电极与隔离结构的一部分叠置,其中,第一电极对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的栅极,其中,二极管的N型阱区域对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的N型阱区域,二极管的P型漂移区域对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的P型漂移区域,二极管的P型掺杂区域对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的漏极区域,二极管的隔离结构对应于P型横向扩散金属氧化物半导体晶体管的隔离结构。
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