[发明专利]图案形成方法、剥离方法、磁记录介质的制造方法、磁记录介质、以及压模的制造方法在审
| 申请号： | 201410035861.3 | 申请日： | 2014-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN104424965A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 泷泽和孝;木村香里;竹尾昭彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;杨光军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是得到一种图案尺寸精度良好的图案形成方法。作为解决手段，提供一种图案形成方法，其包括：在基板上形成被加工层的工序；向包含贵金属微粒子和第1溶剂的第1分散液，添加包含高分子材料和第2溶剂的第2分散液，制作分散有被高分子材料被覆了的微粒子的贵金属微粒子层涂布液的工序，所述高分子材料包含在末端具有贱金属的高分子链；使用贵金属微粒子层涂布液，在被加工层上使被高分子材料被覆了的贵金属微粒子排列的工序；和向被加工层转印被高分子材料被覆了的贵金属微粒子的凹凸图案的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 剥离 记录 介质 制造 以及 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，包括：在基板上形成被加工层的工序；向包含贵金属微粒子和第1溶剂的第1分散液，添加包含高分子材料和第2溶剂的第2分散液，制作分散有被该高分子材料被覆了的微粒子的贵金属微粒子层涂布液的工序，所述高分子材料包含在末端具有贱金属的高分子链；使用该贵金属微粒子层涂布液，在被加工层上使被该高分子材料被覆了的贵金属微粒子排列而形成贵金属微粒子层的工序；和向被加工层转印基于该贵金属微粒子层的凹凸图案的工序。
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