[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板在审
| 申请号： | 201410045489.4 | 申请日： | 2014-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN103978422A | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 玉田稔;大塚晴彦;田先雷太 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/20;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供磁记录介质用玻璃基板的制造方法及磁记录介质用玻璃基板。即提供一种在磁记录介质用玻璃基板的主表面中能够使短波长的表面波纹度和中波长的表面波纹度足够小的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。该磁记录介质用玻璃基板的制造方法包含研磨工序：使用具有研磨面的软质研磨垫，对玻璃基板的主表面进行研磨，所述研磨面在测定波长2.5～80μm时的表面粗糙度Ra为0.40～1.40μm、且在测定波长2.5～800μm时的表面粗糙度Ra为0.40～2.00μm。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，包含研磨工序：使用具有研磨面的软质研磨垫对玻璃基板的主表面进行研磨，所述研磨面在测定波长2.5～80μm时的表面粗糙度Ra为0.40～1.40μm、且在测定波长2.5～800μm时的表面粗糙度Ra为0.40～2.00μm。
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