[发明专利]去除PECVD装置的电荷的系统及其控制方法有效
申请号: | 201410049076.3 | 申请日: | 2014-02-12 |
公开(公告)号: | CN103820772A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 王振斌;蒲以康;凌复华;姜谦 | 申请(专利权)人: | 清华大学;沈阳拓荆科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提出一种去除PECVD装置的电荷的系统,包括:PECVD腔室,具有光源出入口;光源,用于照射PECVD腔室的内壁;驱动装置,驱动装置与光源相连,用于驱动光源从光源出入口进出PECVD腔室;挡板,位于PECVD腔室的内壁的一侧,用于开闭光源出入口;控制器,分别与光源,驱动装置和挡板相连,用于在通过驱动装置控制光源进入PECVD腔室时,控制挡板打开光源出入口并控制光源照射PECVD腔室的内壁,以及在光源移出PECVD腔室时、控制挡板关闭光源出入口。本发明的系统,可有效地去除PECVD腔室的内壁积累的电荷,结构简单、可靠,提高了整个工艺过程的稳定性。本发明还提出了一种去除PECVD装置的电荷的系统的控制方法。 | ||
搜索关键词: | 去除 pecvd 装置 电荷 系统 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种去除PECVD装置的电荷的系统,其特征在于,包括:PECVD腔室,所述PECVD腔室具有光源出入口;光源,用于照射所述PECVD腔室的内壁;驱动装置,所述驱动装置与所述光源相连,用于驱动所述光源从所述光源出入口进出所述PECVD腔室;挡板,所述挡板位于所述PECVD腔室的内壁的一侧,用于开闭所述光源出入口;控制器,所述控制器分别与所述光源,所述驱动装置和所述挡板相连,用于在通过所述驱动装置控制所述光源进入所述PECVD腔室时,控制所述挡板打开所述光源出入口并控制所述光源照射所述PECVD腔室的内壁,以及在所述光源移出所述PECVD腔室时、控制所述挡板关闭所述光源出入口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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