[发明专利]通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法无效
| 申请号： | 201410055215.3 | 申请日： | 2014-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN103794139A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 姚为;熊振文 | 申请（专利权）人： | 立德高科(北京)数码科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G09F3/02 | 分类号： | G09F3/02;G06K19/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100081 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种图形隐藏方法，尤其是一种通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，包括：在物品表面植入由含碳隐形油墨生成的点阵图形；在物品表面植入由无碳油墨生成的干扰元素层，并使干扰元素层覆盖在点阵图形上。本发明所使用的点阵图形采用隐形油墨植入在物品表面，因此，可提高其隐蔽性，另外，在点阵图形上遮盖能够将其完全被覆盖的干扰元素层，因此，极大增加了防伪的安全性；由于用于识别点阵图形为肉眼不可见光的光谱与用于识别干扰元素层的肉眼可光的光谱不同，因此，即使在点阵图形上覆盖有干扰元素层也不会影响对点阵图形的读取与识别。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 加入 干扰 元素 隐藏 点阵 图形 方法 | ||
【主权项】：
一种通过加入干扰元素层以隐藏点阵图形的方法，包括以下步骤：S10、在物品表面植入由含碳隐形油墨生成的点阵图形；S20、在物品表面植入由无碳油墨生成的干扰元素层，并使干扰元素层覆盖在点阵图形上。
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