[发明专利]切削残余部除去装置有效
申请号: | 201410065865.6 | 申请日: | 2014-02-26 |
公开(公告)号: | CN104183476B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 中村浩二郎;吉野道朗;古重彻 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | H01L21/301 | 分类号: | H01L21/301;B28D5/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种切削残余部除去装置,其目的在于提高晶片的生产成品率。根据本发明,第一喷嘴(30)喷射流体而在切削残余部(601)与晶片列(60)之间设置间隙,保持臂(710)使切削残余部(601)旋转,而扩宽切削残余部(601)与晶片列(60)之间的间隙且使切片基座(50)与切削残余部(601)剥离,使切削残余部(601)向与切削残余部(601)分开的方向移动,从而能将切削残余部(601)从切片基座(50)除去。由此,在取出晶片(600)时,能抑制晶片(600)与切削残余部(601)接触而产生的晶片(600)的裂纹、缺口等的品质异常,进而能提高晶片的生产成品率。 | ||
搜索关键词: | 切削 残余 除去 装置 | ||
【主权项】:
一种切削残余部除去装置,其从利用粘接剂粘接有晶片列和切削残余部的切片基座除去所述切削残余部,所述晶片列通过对铸锭进行切片而形成,所述切削残余部配备于所述铸锭的端部,所述切削残余部除去装置的特征在于,具备:槽,其储存液体;保持构件,其保持所述切片基座;保持臂,其保持所述切削残余部且使所述切削残余部移动;第一喷嘴,其向所述晶片列中的位于与所述切削残余部相邻位置的晶片的、与所述切削残余部对置的面喷射流体;旋转机构,其保持所述切削残余部,使所述切削残余部以所述切削残余部与所述切片基座的粘接部位为轴向从所述晶片列离开的方向旋转;第二喷嘴,其与所述切削残余部的旋转同步地进行移动;移动机构,其使所述切削残余部向从所述切片基座离开的方向移动。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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