[发明专利]溅射装置以及用其形成薄膜的方法有效
| 申请号： | 201410077974.X | 申请日： | 2014-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN104342623B | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 崔丞镐;刘泰锺 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;杨莘 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种溅射装置。该溅射装置包括：壳体；可旋转地布置在壳体上的旋转支架；布置在旋转支架上的目标单元；布置在目标单元内的磁体单元，该磁体单元能够相对于旋转支架进行相对移动；以及布置在旋转支架与磁体单元之间和/或壳体与磁体单元之间以沿着磁体单元的长度方向驱使磁体单元的施力单元。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 以及 形成 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅射装置，包括：壳体；旋转支架，可旋转地布置在所述壳体上；目标单元，布置在所述旋转支架上；磁体单元，布置在所述目标单元内，所述磁体单元能够相对于所述旋转支架进行相对移动；以及施力单元，布置在所述旋转支架与所述磁体单元之间和/或所述壳体与所述磁体单元之间以沿着所述磁体单元的长度方向驱使所述磁体单元；其中，所述磁体单元具有固定到所述壳体的端部。
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