[发明专利]一种真空蒸镀装置无效
| 申请号： | 201410081835.4 | 申请日： | 2014-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN103866238A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 沐俊应;马大伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种真空镀膜装置，包括：用于承载及移动基板的基板驱动机构；用于承载及移动第一掩膜板的第一掩膜板驱动机构，第一掩膜板位于基板的下方；用于承载及移动第二掩膜板，以与第一掩膜板驱动机构配合，改变第一掩膜板与第二掩膜板的掩膜板图形区的相互交叠状态的第二掩膜板驱动机构，第二掩膜板位于第一掩膜板的下方；以及，蒸发源，蒸发源位于第二掩膜板的下方。本发明所提供的真空蒸镀装置，通过设置至少两块掩膜板，可以根据基板表面待蒸镀图形区的图形特征，改变至少两块掩膜板上的掩膜板图形区的相互交叠状态，以与基板表面待蒸镀图形区的图形相适配，从而实现各层蒸镀薄膜的图形化，降低了掩膜板的制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 装置 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：用于承载及移动基板的基板驱动机构；用于承载及移动第一掩膜板的第一掩膜板驱动机构，所述第一掩膜板位于所述基板的下方；用于承载及移动第二掩膜板，以与所述第一掩膜板驱动机构配合，改变所述第一掩膜板与所述第二掩膜板的掩膜板图形区的相互交叠状态的第二掩膜板驱动机构，所述第二掩膜板位于所述第一掩膜板的下方；以及，蒸发源，所述蒸发源位于所述第二掩膜板的下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410081835.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
