[发明专利]基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法

摘要

本公开提供了基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法。该基板处理系统可以包括构造为用超临界流体处理基板的处理装置以及构造为提供超临界流体到处理装置的供给装置。处理装置可以包括超临界工艺区和预超临界工艺区，在该超临界工艺区中基板用超临界流体处理，在预超临界工艺区中超临界流体膨胀然后被提供到超临界工艺区中以在超临界工艺区中产生超临界状态。

主权项

1.一种用于处理基板的装置，该装置包括：工艺室，其底部被凹入以在其中形成凹陷，所述工艺室包括：预超临界工艺区，在其中接收超临界流体；超临界工艺区，与所述预超临界工艺区流体相通，所述超临界工艺区构造为能够利用所述超临界流体处理其中的基板；隔板，其被设置在所述凹陷上以覆盖所述凹陷；以及支撑所述隔板的多个支撑部分，所述多个支撑部分设置在所述凹陷外部，其中所述预超临界工艺区布置和构造为在所述超临界流体到达所述超临界工艺区之前允许所述超临界流体膨胀，其中所述预超临界工艺区和所述超临界工艺区由所述隔板彼此分开。