[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

摘要

本发明提供在基板的干燥时使表面上的液体瞬时干燥并且提高基板的生产率的基板处理装置和基板处理方法。在基板处理装置（100）中包括向基板（W）的表面供给清洗液的清洗液供给部（114）；向被供给有清洗液的基板（W）的表面供给挥发性溶剂，将基板（W）的表面的清洗液置换为挥发性溶剂的溶剂供给部（115）；对被供给有挥发性溶剂的基板（W）进行加热的加热机构（117）；和将通过加热机构（117）的加热作用在基板（W）的表面生成的挥发性溶剂的液珠除去，对基板（W）的表面进行干燥的干燥机构（118），上述加热机构（117）和上述干燥机构（118）设置在从上述溶剂供给部（115）输出的基板（W）的输送路径上。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，包括：向基板的具有图案的表面供给清洗液的清洗液供给部；向被供给有清洗液的所述基板的所述表面供给液体状的挥发性溶剂，将所述基板的所述表面的清洗液置换为液体状的挥发性溶剂，在所述表面上形成所述挥发性溶剂的膜的溶剂供给部；对在所述表面上形成有所述挥发性溶剂的膜的所述基板进行加热的加热机构；将通过加热机构的加热作用在所述基板的所述表面生成的挥发性溶剂的液珠吸引除去，对所述基板的所述表面进行干燥的吸引干燥机构；和输送所述基板的输送机构，所述加热机构使用在波长500～3000nm间包括峰值强度的灯，所述加热机构和所述吸引干燥机构与由所述输送机构输送的所述基板的所述表面相对，而且所述吸引干燥机构沿所述基板的输送方向设置在所述加热机构的下游，所述挥发性溶剂的膜形成在所述表面上，被所述输送机构输送的输送过程的所述基板被所述加热机构加热，在所述表面上生成所述挥发性溶剂的液珠，将生成的所述挥发性溶剂的液珠用所述吸引干燥机构吸引除去。