[发明专利]一种铬板制造工艺中残余点的处理方法在审
| 申请号： | 201410110349.0 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN103869610A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 陈翻;范利康 | 申请（专利权）人： | 武汉正源高理光学有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 张瑾 |
| 地址： | 430223 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种铬板制造工艺中残余点的处理方法，其包括的步骤：一是基片清洗；二是溅射镀膜；三是一次光刻，在玻璃基片表面均匀地涂覆一层正型感光材料，通过掩膜曝光将图形复制到铬膜层上面；四是二次光刻，在复制有图形的铬膜层上再次涂覆正型感光材料，通过对准掩膜版上预先设计的标记对准进行二次曝光，将第二张掩膜图形复制到铬膜层上，然后对其整板进行蚀刻，藉此二次光刻去除第一次光刻留下的残余点，藉由前述结构或其构造的结合，实现了该处理方法，从而达成了可在较低的环境洁净度下彻底清除阳区中的小岛缺陷，且可批量生产以及保证品质的良好效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制造 工艺 残余 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种铬板制造工艺中残余点的处理方法，其特征在于：该方法包括：步骤一，基片清洗：将玻璃基片表面清洗干净；步骤二，溅射镀膜：在玻璃基片表面镀上一层不透光的铬膜层及氧化铬抗反射涂层；步骤三，一次光刻：在玻璃基片表面均匀地涂覆一层正型感光材料，通过掩膜曝光，将图形复制到铬膜层上面；步骤四，二次光刻：承接步骤三，在复制有图形的铬膜层上再次涂覆正型感光材料，通过对准掩膜版上预先设计的标记对准进行二次曝光，将第二张掩膜图形复制到铬膜层上，然后对其整板进行蚀刻，藉此二次光刻去除第一次光刻留下的残余点。
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