[发明专利]铜线及其制造方法在审
| 申请号： | 201410111579.9 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN104099491A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 青山正义;鹫见亨;佐川英之;藤户启辅;后藤正义;蛭田浩义 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C22C9/00 | 分类号： | C22C9/00;C22F1/08;H01B1/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种铜线及其制造方法，该铜线的半软化温度比韧铜（3N铜）和无氧铜（4N铜）更低且拉伸强度比高纯铜（6N铜）更高。本实施方式的铜线由铜线材形成，该铜线材包含5～55质量ppm浓度的Ti、3～12质量ppm浓度的硫、2～30质量ppm浓度的氧，其余部分由铜和不可避免的杂质构成，该铜线具有第1结晶和第2结晶，所述第1结晶具有结晶方位[111]，且结晶内含有至少一个双晶，所述第2结晶是与第1结晶相邻的一个以上的结晶，具有原子面上的旋转角度与第1结晶不同的结晶方位[111]，且结晶内含有至少一个双晶。 | ||
| 搜索关键词： | 铜线 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种铜线，由铜线材形成，所述铜线材包含5～55质量ppm浓度的Ti、3～12质量ppm浓度的硫、2～30质量ppm浓度的氧，其余部分由铜和不可避免的杂质构成，所述铜线具有第1结晶和第2结晶，所述第1结晶具有结晶方位[111]，且结晶内含有至少一个双晶，所述第2结晶是与所述第1结晶相邻的一个以上的结晶，具有原子面上的旋转角度与所述第1结晶不同的结晶方位[111]，且结晶内含有至少一个双晶。
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