[发明专利]薄膜的制造方法及制造设备有效
| 申请号： | 201410122803.4 | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN104070691B | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 伊藤和美;木村征克;小川祐二;广幡大树 | 申请（专利权）人： | 宇部兴产株式会社 |
| 主分类号： | B29C71/02 | 分类号： | B29C71/02;B29C31/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人： | 谢顺星,张晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种薄膜的制造方法及制造设备，其能够以良好的成品率制造对热的尺寸稳定性优异的薄膜。其是进行薄膜的应力衰减处理的薄膜的制造方法，使用从气体喷射孔对薄膜喷出加热气体来以非接触状态输送薄膜的浮置输送装置（1），在以非接触状态输送薄膜的同时进行应力衰减处理。尤其适合于对聚酰亚胺薄膜的前驱体进行加热处理而得到的聚酰亚胺薄膜的应力衰减处理。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 制造 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种薄膜的制造方法，其特征在于，进行薄膜的应力衰减处理，使用具备多个薄膜输送导向器和压薄膜装置的浮置输送装置，其中，所述多个薄膜输送导向器具有设置有气体喷射孔的凸曲面状的薄膜输送面，所述压薄膜装置与所述薄膜输送导向器的薄膜输送面相对，具有在与该薄膜输送面之间以规定间隙配置的凹曲面，在该凹曲面上设置有气体喷射孔，利用从所述薄膜输送导向器的气体喷射孔喷出的加热气体和从所述压薄膜装置的气体喷射孔喷出的加热气体，对薄膜的两面喷吹加热气体，使薄膜交替地在相反方向上弯曲，以非接触状态输送，同时进行所述应力衰减处理。
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