[发明专利]回收单元、利用该回收单元的基体处理设备和回收方法有效
申请号: | 201410126255.2 | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN104078389B | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 郑恩先;金禹永;许瓒宁 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 潘炜,刘向辉 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种基体处理设备。该基体处理设备包括处理室和回收单元,在处理室中通过使用作为超临界流体提供的流体将保留在基体上的有机溶剂溶解以干燥基体,回收单元包括将有机溶剂与从处理室排出的流体分离以回收流体的回收器。回收器包括具有用于吸收有机溶剂的吸收剂存储其中的空间的柱状体,将从处理室排出的流体供给至柱状体的空间内的供给管,将在柱状体中与有机溶剂分离的流体排出的排出管,将净化气体供给至柱状体以便将有机溶剂与吸收剂分离的气体供给管,以及将包含有机溶剂的净化气体排出至柱状体的外部的排出管。 | ||
搜索关键词: | 回收 单元 利用 基体 处理 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种基体处理设备,包括:处理室,在所述处理室中通过使用作为超临界流体提供的流体将保留在基体上的有机溶剂溶解以干燥所述基体;以及回收单元,所述回收单元包括将所述有机溶剂与从所述处理室排出的流体分离以回收所述流体的回收器,其中,所述回收器包括:柱状体,所述柱状体具有将用于吸收所述有机溶剂的吸收剂存储其中的空间;供给管,所述供给管将从所述处理室排出的所述流体供给至所述柱状体的所述空间内;用于所述流体的排出管,所述用于所述流体的排出管将在所述柱状体中与所述有机溶剂分离的流体排出;气体供给管,所述气体供给管将净化气体供给至所述柱状体内以使所述有机溶剂与所述吸收剂分离;以及用于所述净化气体的排出管,所述用于所述净化气体的排出管将包含所述有机溶剂的所述净化气体排出至所述柱状体的外部,其中,所述基体处理设备还包括对供给至所述柱状体内的所述净化气体进行加热的加热器,其中,所述回收单元构造成在不向所述柱状体的所述空间中供给所述流体时向所述柱状体中供给所述净化气体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造