[发明专利]透明绝缘膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201410138096.8 | 申请日： | 2014-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN104102091B | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 野田国宏;千坂博树;盐田大 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;H01B17/56 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够形成透明性优异且介电常数高的透明绝缘膜的透明绝缘膜形成用组合物、使用该透明绝缘膜形成用组合物而得到的透明绝缘膜、以及具备该透明绝缘膜的显示装置。在该透明绝缘膜形成用组合物中配合选自基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的单质、氧化物、螯合化合物、盐及合金中的1种以上作为填充材料。作为透明绝缘膜形成用组合物，优选：含有(A)填充材料、(B1)具有含脂环式环氧基的基团的化合物及(C)产酸剂的组合物；或者含有(A)填充材料及(B2)树脂且(B2)树脂为选自硅酮树脂、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚、聚硫醚及具有烯属不饱和双键的单体的聚合物中的1种以上的组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 绝缘 形成 组合 | ||
【主权项】：
一种透明绝缘膜形成用组合物，其含有选自基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的单质、氧化物、螯合化合物、盐及合金中的1种以上作为(A)填充材料，并且能够形成在使用厚度2μm的试样进行测定时波长400nm的光的透射率为90％以上的膜。
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